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电子行业超纯水解决方案
SOLUTIONS FOR ELECTRONIC ULTRA-PURE WATER INDUSTRY
SOLUTIONS FOR ELECTRONIC
ULTRA-PURE
WATER INDUSTRY
电子芯片、半导体的制造过程十分复杂，关键的步骤如沉积、光刻胶涂覆、刻蚀、离子注入和封装都离不开超纯水，超纯水具有绝缘性以及不含杂质，保障了产品的合格率。超纯水系统是工业水处理系统中设计施工最为复杂，包括了众多的子系统，功能单元及配套系统，可将其细分为预处理、除盐水、纯水、循环抛光及回收五大子系统。
中国国家电子超纯水标准把电子级水质分为四个标准，以电阻率表示分别为EW-Ⅰ18MΩ.cm(25℃),(95%时间)不低于17MΩ.cm(25℃)；EW-Ⅱ15MΩ.cm(25℃)，(95%时间)不低于12MΩ.cm(25℃)；EW-Ⅲ12MΩ.cm(25℃)；EW-Ⅳ0.5Ω.cm(25℃)。
中国国家电子超纯水标准把电子级水质分为四个标准，
单/多晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装、引线柜架、集成电路、 液晶显示器、显像管、LED芯片、导电玻璃、抛光片、光学元件、光通信、电池（蓄电池）、线路板、电容器、超净化学品等
系统由四部分组成：预处理模块、反渗透模块、EDI模块、精处理模块。
预处理模块包括砂滤、多介质过滤、软化、加氯、调节PH、活性碳过滤、脱气等。过滤可除去1-20微米大小的颗粒，软化和调节PH可防止反渗透膜结垢，加氯是杀菌。活性炭是除去有机物和自由氯，脱气是消除水中的CO2等。
反渗透模块使溶剂从浓溶液一侧通过半透膜向稀溶液一侧方向渗透，脱盐可达98%，并能去除99%的细菌颗粒和溶解在水中的有机物。
EDI模块是在外加直流电场的作用下利用阳离子和阴离子交换膜对离子选择性过滤，脱盐率可达95%以上。
精处理模块是树脂上可交换的阴离子被置换到水中（例如OH离子），并与水中的H离子结合成水。
半导体行业超纯水工艺流程
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